Простий
пошук
Розширений
пошук
Покажчики
Професійний
пошук
Рубрикатор
НБУВ
Розподілений
пошук

Бази даних

Наукова періодика України - результати пошуку

Книжкові видання та компакт-диски
Журнали та продовжувані видання
Автореферати дисертацій
Реферативна база даних
Наукова періодика України
Тематичний навігатор
Авторитетний файл імен осіб
Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"
Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Книжкові видання та компакт-диски (1)Реферативна база даних (7)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій


Пошуковий запит: (<.>A=Kuprin A$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 7
Представлено документи з 1 до 7
1.

Kuprin A. S. 
Influence of Deuterium Ion Implantation on the Structure and Hardness of Nanocrystalline Films [Електронний ресурс] / A. S. Kuprin, G. N. Tolmachova, V. A. Belous, N. S. Lomino, V. D. Ovcharenko, E. N. Reshetnyak, O. M. Morozov, V. I. Zhurba // Proceedings of the International Conference Nanomaterials: Applications and Properties. - 2012. - Vol. 1, no. 4. - С. 04RES07-04RES07. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/princon_2012_1_4_54
Попередній перегляд:   Завантажити - 205.19 Kb    Зміст випуску     Цитування
2.

Kuprin A. S. 
Properties of Coatings Deposited from Filtered Vacuum Arc Plasma with HEA Cathode [Електронний ресурс] / A. S. Kuprin, V. A. Belous, S. A. Firstov, V. F. Gorban, V. D. Ovcharenko, E. N. Reshetnyak, G. N. Tolmachova, M. G. Kholomeev // Proceedings of the International Conference Nanomaterials: Applications and Properties. - 2013. - Vol. 2, no. 2. - С. 02FNC12-02FNC12. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/princon_2013_2_2_60
Попередній перегляд:   Завантажити - 230.817 Kb    Зміст випуску     Цитування
3.

Kuprin A. S. 
Effects of Deuterium Implantation Dose on Hardness and Deuterium Desorption [Електронний ресурс] / A. S. Kuprin, O. M. Morozov, V. A. Belous, S. A. Firstov, V. F. Gorban, V. D. Ovcharenko, E. N. Reshetnyak, G. N. Tolmachova, V. I. Zhurba, V. O. Progolaieva // Proceedings of the International Conference Nanomaterials: Applications and Properties. - 2013. - Vol. 2, no. 2. - С. 02FNC20-02FNC20. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/princon_2013_2_2_68
Попередній перегляд:   Завантажити - 445.774 Kb    Зміст випуску     Цитування
4.

Morozov O. M. 
Effects of Concentration Titanium on Threshold Character of Deuterium Desorption Temperature Range from Mg–based Composites [Електронний ресурс] / O. M. Morozov, V. G. Kulish, V. I. Zhurba, I. M. Neklyudov, V. O. Progolaieva, A. S. Kuprin, N. S. Lomino, V. D. Ovcharenko, O. G. Galitskiy // Proceedings of the International Conference Nanomaterials: Applications and Properties. - 2013. - Vol. 2, no. 4. - С. 04NEA04-04NEA04. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/princon_2013_2_4_57
Попередній перегляд:   Завантажити - 334.393 Kb    Зміст випуску     Цитування
5.

Kuprin A. S. 
Coating Deposition by Ion-plasma Sputtering of MAX Phase Ti2AlC Target [Електронний ресурс] / A. S. Kuprin, T. A. Prikhna, E. N. Reshetnyak, M. A. Bortnitskaya, I. V. Kolodiy, V. A. Belous, S. N. Dub, A. V. Ilchenko, V. B. Sverdun // Journal of nano- and electronic physics. - 2020. - Vol. 12, no. 5. - С. 05011-1-05011-6. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2020_12_5_13
Вивчено процес осадження покриттів шляхом розпилення мішені на основі MAX-фази Ti2AlC з використанням джерела газової плазми. Показано, що MAX-фаза Ti2AlC відноситься до важкорозпилюємих матеріалів. Зі збільшенням енергії розпилення іонів Ar<^>+ з 400 до 1200 еВ коефіцієнт розпилення мішені на основі MAX-фази збільшується з 0,2 до 0,7 атом/іон. Одержані значення в 1,5 разу нижчі за коефіцієнти розпилення мішені з титану. Фазові перетворення відбуваються на поверхні мішені і пов'язані з розпадом MAX-фази та селективним розпиленням більш легких елементів іонами Ar<^>+. Встановлено, що на склад нанесених покриттів суттєво впливає величина потенціалу зміщення на підкладці. Зі збільшенням потенціалу в діапазоні від 50 до 200 В відносний вміст алюмінію в покриттях різко падає на користь титану від Ti:Al = 3,5:1 до Ti:Al = 48:1. Незалежно від складу, твердий розчин (Ti, Al)C утворюється в покриттях з кубічною кристалічною решіткою типу NaCl, розміром кристалітів 10 - 15 нм і текстурою осьового типу. MAX-фазу Ti2AlC в покриттях не виявлено. Покриття мають високу твердість і модуль Юнга, які збільшуються зі зниженням концентрації алюмінію в межах 21 - 30 ГПа та 290 - 340 ГПа.
Попередній перегляд:   Завантажити - 441.041 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
6.

Bortnitskaya M. A. 
Structure and Mechanical Characteristics of Ti2AlC MAX Phase Cathodes and Deposited Ion-Plasma Coatings [Електронний ресурс] / M. A. Bortnitskaya, E. N. Reshetnyak, A. S. Kuprin, T. A. Prikhna, V. B. Sverdun, I. V. Kolodiy, V. A. Belous, V. G. Marinin, T. B. Serbenyuk // Journal of nano- and electronic physics. - 2021. - Vol. 13, no. 5. - С. 05031-1-05031-7. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2021_13_5_33
Вивчено характеристики структури, твердості, пружності та кавітаційної стійкості матеріалу катодів на основі MAX фази Ti2AlC, виготовлених за методом гарячого пресування, а також іонно-плазмових покриттів, осаджених з використанням цих катодів на титановий сплав Ti6Al4V. Встановлено, що матеріал катода, який містить 83 ваг. % MAX фази Ti2AlC, характеризується твердістю 10 ГПа, значенням параметра H/E 0,04 і низькою кавітаційною стійкістю. Середній кавітаційний знос катоду у 4 рази вище, ніж знос титанового сплаву Ti6Al4V. З'ясовано, що елементний і фазовий склад осаджених покриттів відрізняється від складу катода. Основною фазою в покриттях є нанокристалічний карбід (Ti, Al)C з кубічною структурою типу NaCl. Покриття Ti0,58Al0,17C0,25, осаджене за методом іонного розпилення за допомогою дугового джерела газової плазми, характеризується твердістю 21 ГПа. Твердість вакуумно-дугового покриття Ti0,65Al0,07C0,28 ближче до твердості катоду - 13 ГПа, що пов'язано з наявністю в його складі <$Ealpha>-Ti. Співвідношення H/E у покриттів в 1,5 разу вище, ніж у катода, що є передумовою високої кавітаційної стійкості. Середня швидкість кавітаційного зношування вакуумно-дугового покриття Ti0,65Al0,07C0,28 у 1,5 разу нижче, ніж вакуумно-дугового покриття TiN, і в 3 рази нижче, ніж сплаву Ti6Al4V без покриття.
Попередній перегляд:   Завантажити - 533.979 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
7.

Kuprin A. S. 
Effect of Deuterium Ion Implantation Dose on Microstructure and Nano-mechanical Properties of Silicon [Електронний ресурс] / A. S. Kuprin, S. N. Dub, A. S. Nikolenko, V. V. Strelchuk, O. Morozov, G. N. Tolmachova, A. O. Pudov // Journal of nano- and electronic physics. - 2022. - Vol. 14, no. 1. - С. 01001-1-01001-6. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2022_14_1_3
Імплантація водню в кремній з подальшим відпалом (технологія Smart-Cut) застосовується для виготовлення мікроелектронних пристроїв. Покращені характеристики одержаних структур було досягнуто шляхом імплантації дейтерію замість водню. Метод наноіндентування широко використовується при вимірюванні твердості H та модуля пружності E матеріалів у нанорозмірному масштабі. Мета даної роботи - дослідження впливу дози імплантації іонів дейтерію на структуру та механічні властивості монокристалічного кремнію в нанорозмірному масштабі. Досліджено вплив доз імплантації іонів дейтерію в діапазоні від <$E2~times~10 sup 15> до <$E1~times~10 sup 18> D/см<^>2 на структуру та механічні властивості монокристалу кремнію в наномасштабі. Зразки полірованого кремнію (111) імплантували при 293 К пучком іонів дейтерію з енергією 24 кеВ. За допомогою методу Раманівської спектроскопії було показано, що залежно від дози імплантації в кремнії утворюються три структурні стани: дейтерій знаходиться у твердому розчині, суміш аморфної фази кремнію і твердого розчину, і тільки аморфний стан (a-Si:D). Термічна десорбційна спектроскопія показує, що при низьких дозах імплантації в спектрах термодесорбциї дейтерію спостерігається один пік з максимумом при Tmax ~ 575 К, а при дозах вище <$E5~times~10 sup 17> D/см<^>2 з'являється низькотемпературний пік з максимумом за 500 К, що свідчить про утворення аморфного гідрогенізованого кремнію a-Si:D. Наноіндентування показало, що в режимі повної пластичності в контакті (>> 100 нм), утворення твердого розчину дейтерію в кремнії спричиняє збільшення твердості поверхні зразка до 14,1 ГПа. Твердість поверхні різко зменшується до 3,6 ГПа з утворенням шару a-Si:D.
Попередній перегляд:   Завантажити - 504.018 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського